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液压-双组份聚脲喷涂设备 H-XP2,H-XP3

简介:Reactor H-XP2 和 H-XP3 设计用于涂敷聚脲和其它需要高压力的涂层,可为高输出应用提供出色的动力与性能。 对于需要高压的涂层应用 - 每分钟可喷涂最多 2.8 加仑(10.6 升)

型号:Reactor H-XP2,H-XP3

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